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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • XMD白炭黑濕法改性高剪切分散機

    白炭黑濕法改性高剪切分散機功率4KW,轉(zhuǎn)速0-18000rpm,線速度0-44m/s,電壓380V,機器產(chǎn)量為0-300升/小時(水),重量50KG,尺寸(長寬高450X350X750)mm,使用雙機械密封,可24小時不停機連續(xù)生產(chǎn),并通冷媒對密封部分進行冷卻。機械密封和機械設(shè)計符合3A健康標(biāo)準(zhǔn),是實驗和中試生產(chǎn)的理想選擇。

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    2023-11-12

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  • XMD石墨烯導(dǎo)電銀漿分散機

    石墨烯導(dǎo)電銀漿分散機用*的結(jié)構(gòu)設(shè)計將傳統(tǒng)的膠體磨和分散機合二為一,并配合超高速的轉(zhuǎn)速,轉(zhuǎn)速可達14000rpm,研磨分散效果更佳。

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  • XMD石墨烯片層機械剝離分散機

    石墨烯片層機械剝離分散機可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

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    2023-11-12

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  • XMD石墨烯橡膠復(fù)合漿料分散機

    石墨烯橡膠復(fù)合漿料分散機采用太倉希德技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將SID高剪切膠體磨進行進一步的改良,在原來XM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。

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    2023-11-12

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  • XMD陶瓷隔膜漿料研磨分散機

    陶瓷隔膜漿料研磨分散機具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

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  • XMD納米金屬氧化物高剪切分散機

    納米金屬氧化物高剪切分散機在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

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    2023-11-12

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  • XM發(fā)酵液均質(zhì)高剪切分散機

    發(fā)酵液均質(zhì)高剪切分散機特別適合于膠體溶液,超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,XM在摩擦狀態(tài)下工作,因此也被稱做濕磨。

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    2023-11-12

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  • XMD醫(yī)用二氧化鈦乳液分散機

    醫(yī)用二氧化鈦乳液分散機采用博格曼雙端面機械密封,在保證冷卻水的前提下,可24小時連續(xù)運行。而普通乳化機很難做到連續(xù)長時間的運行,并且普通乳化機不能承受高轉(zhuǎn)速的運行。

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    2023-11-12

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